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1 | 场发射扫描电子显微镜 | 主要用于金属材料、非金属材料和纳米材料等多种材料的电子显微学研究,在高真空条件下对样品进行直接的超高分辨显微形貌观察和微区元素分析。被广泛地应用于纳米科学、冶金学、物理学、材料科学、机械学、地学、矿物学、生命科学和半导体等多种领域,尤其在光电料与器件的研发等方面,场发射扫描电子显微镜成为了极其重要的研究手段。主要技术参数如下: 1.分辨率 *1.1 二次电子分辨率:≤1.0nm (20kV), ≤3.0nm (1kV) 1.2 空间分辨率:在工作距离10mm,束流3nA的分析模式下:≤3.0nm(15KV) 1.3低真空模式下背散射电子分辨率:≤1.8nm(15KV) 1.4放大倍率5X - 600,000X 2.真空系统 2.1 高真空模式:电子枪部位真空度达到10-7Pa数量级,真空系统自动控制 *2.2 全自动电磁阀门,无须空气压缩机 2.3采用三级真空系统:1个机械泵、1个分子泵,2个离子泵,正常换样时间小于3分钟。 | 235.00 | 2024年5月 |